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Limpeza Automática de Tanque Único para a Indústria de Dispositivos Médicos - Ultrassom de 28KHz + Enxágue por Spray + Secagem por Ar Quente + Sistema de Elevação
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Limpeza Automática de Tanque Único de 28KHz para Dispositivos Médicos - Ultrassom + Enxágue por Spray + Secagem por Ar Quente
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Limpeza Automática de Dispositivos Médicos com Tanque Único - Ultrassom 28KHz + Enxágue por Pulverização + Sistema de Secagem com Ar Quente
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Limpeza de Wafer de Silício Semicondutor - 40KHz-80KHz Limpeza Alcalina/Ácida Ultrasônica + Enxaguamento UPW, 60°C
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Limpeza de Bolacha de Silício Semicondutor - Limpeza Ultrassônica Alcalina/Ácida de 40KHz-80KHz + Enxágue com Água Pura, 60℃
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Limpeza de Wafer de Silício de Semicondutores de 40KHz-80KHz - Limpeza Alcalina/Ácida Ultrasônica + Enxaguamento com Água Pura, 60°C
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Limpeza de Wafer de Silício Semicondutor - Limpeza Alcalina/Ácida Ultrasônica + Enxaguamento com Água DI, 40KHz-80KHz, 60°C
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Limpeza de Wafer de Silício de Semicondutores de 40KHz-80KHz - Limpeza Alcalina/Ácida Ultrasônica + Enxaguamento com Água Pura, 60°C
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40KHz-80KHz Semicondutor Limpeza de Wafer de Silício - Ultra-som Limpeza Alcalina/Ácida + DI Enxaguamento com Água, 60°C
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Máquina de água ultrapura EDI 1 tonelada Sistema de osmose reversa ultrapura de dois estágios 15KW