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Equipamento de limpeza por ultra-som compatível com a indústria: Osmose inversa de dupla fase de 1 tonelada + máquina de água ultrapura EDI para limpeza ideal
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Linha de limpeza por ultra-som automática completa 40KHz - 132KHz Limpeza por ultra-som de PCB com secagem a vácuo
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Limpeza Ultrassônica de Rolamentos em Fase Vapor, Unidade Ultrassônica de 40KHZ, 40KW, para a Indústria de Hardware
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Sistema de limpeza por ultrassom industrial de alta pressão 28KHZ 40KHZ Limpeador de peças de automóveis por ultrassom
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28KHZ 40KHZ máquina de lavar a ultrassom cinco tanque ultra-sônico instrumento limpador para linhas de revestimento óptico
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Limpeza de Wafer de Silício Semicondutor - Limpeza Alcalina/Ácida Ultrasônica + Enxaguamento com Água DI, 40KHz-80KHz, 60°C
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Limpeza de Wafer de Silício de Semicondutores de 40KHz-80KHz - Limpeza Alcalina/Ácida Ultrasônica + Enxaguamento com Água Pura, 60°C
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Limpeza de Wafer de Silício Semicondutor - 40KHz-80KHz Limpeza Alcalina/Ácida Ultrasônica + Enxaguamento UPW, 60°C
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40KHz-80KHz Semicondutor Limpeza de Wafer de Silício - Ultra-som Limpeza Alcalina/Ácida + DI Enxaguamento com Água, 60°C
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Limpeza de Bolacha de Silício Semicondutor - Limpeza Ultrassônica Alcalina/Ácida de 40KHz-80KHz + Enxágue com Água Pura, 60℃
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Limpeza de Wafer de Silício de Semicondutores de 40KHz-80KHz - Limpeza Alcalina/Ácida Ultrasônica + Enxaguamento com Água Pura, 60°C