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Pulitore per wafer di silicio a semiconduttore 40KHz-80KHz - Pulizia a ultrasuoni alcalina/acida + Risciacquo con acqua pura, 60℃
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Pulitore per wafer di silicio a semiconduttore 40KHz-80KHz - Pulizia a ultrasuoni alcalina/acida + Risciacquo con acqua pura, 60℃
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40KHz-80KHz Semiconduttore detergente per wafer di silicio - Ultrasuoni alcalino/acido di pulizia + DI risciacquo con acqua, 60°C
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Semiconduttore per la pulizia di wafer di silicio - 40KHz-80KHz Ultrasuoni alcalino/acido + risciacquo con acqua pura, 60°C
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Semiconduttore per la pulizia di wafer di silicio - 40KHz-80KHz Ultrasuoni alcalino/acido + risciacquo con acqua pura, 60°C
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Pulizzatore di wafer di silicio semiconduttore - Pulizzatore alcalino/acido ad ultrasuoni + risciacquo con acqua DI, 40KHz-80KHz, 60°C
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Apparecchiature manuali per la pulizia a ultrasuoni Pulizia a ultrasuoni + Risciacquo + Asciugatura ad aria calda Adatto per componenti elettronici
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Pulizzatore ad ultrasuoni manuale - Caratteristiche Pulizia ad ultrasuoni + Sciacquo + Asciugatura ad aria calda, soddisfa le esigenze di pulizia di lotti per piccole parti
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11 Serbatoi Macchina per la pulizia dei semiconduttori Macchina per la pulizia dei wafer di silicio 40KHZ