Ультразвуковой очиститель с четырьмя резервуарами: с двойным промыванием, предназначенный для высокочистых отраслей промышленности

Четвероступенчатая точная очистка: двойная промывка для требований высокой чистоты

Специализированные решения для конкретных отраслей

Электронная/полупроводниковая промышленность

• Чистящий резервуар: высокочастотные ультразвуковые волны 60-100 кГц с низкой плотностью мощности (0,1-0,3 Вт/см2), чтобы избежать повреждения точных цепей.
• Первый резервуар для промывки: предварительное промывание чистой водой для удаления большей части остаточной чистящей жидкости.
• Второй резервуар для промывки: сверхчистая вода 18 МΩ в сочетании с ультразвуковой промывкой для устранения ионного загрязнения, соответствующая стандартам очистки в электронике.
• Резервуар для сушки: сушка низкотемпературным горячим воздухом при температуре 40-60°C для предотвращения окисления и обесцвечивания компонентов, подходящая для очистки полупроводниковых упаковок и электронных компонентов.

Медицинская/стоматологическая промышленность

• Резервуар очистки: изготовлен из антибактериальной нержавеющей стали 316L с съемными корзинами для очистки; ультразвуковые волны 28-40 кГц в сочетании с очисткой при высокой температуре 80 °C для мощного удаления органических остатков.
• Первый резервуар для промывки: промыть циркулирующей стерильной водой для первоначального удаления остатков чистящей жидкости и примесей.
• Второй резервуар для промывки: промывка стерильной сверхчистой водой и ультрафиолетовой дезинфекцией для обеспечения стерильности поверхностей приборов и отсутствия остатков.
• Резервуар для сушки: высокотемпературная сушка горячим воздухом и стерилизация при 100-120°C, отвечающая требованиям медицинской стерильности, подходящая для чистки хирургических инструментов,зубные ручные принадлежности и медицинские принадлежности.

Промышленность оптических/точных приборов

• Чистящий резервуар: высокочастотные ультразвуковые волны 80-130 кГц с низкой плотностью мощности для удаления частиц поверхности без повреждения.
• Первый резервуар для промывки: промывка чистой водой с постоянным контролем температуры для первоначального удаления остаточной чистящей жидкости.
• Второй резервуар для промывки: промывка сверхчистой водой в сочетании с распылением под низким давлением, чтобы избежать отметок воды на поверхности линзы.
• Резервуар для сушки: сушка на средней температуре горячим воздухом при температуре 60-80 °C в среде, свободной от пыли, для обеспечения чистоты поверхностей линз и их чистоты от царапин.для очистки оптических линз и деталей высокоточных приборов.