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Limpeza por ultra-som de wafer de silício sintonizável de 40-80 kHz 60 ° C Temperatura constante Limpeza ácida alcalina DI Enxaguamento com água

Máquina de limpeza de semicondutores
2026-06-15
76 opiniões
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#Limpador ultrassônico automatizado #Equipamento de Limpeza Ultrassônica #Sistema da limpeza ultrassônica
Introdução ao produto: Limpeza de wafer de silício semicondutor- Não. Este sistema de limpeza de alto desempenho foi especificamente concebido para o processamento de wafers de silício semicondutores... Veja mais
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Limpeza por ultra-som de wafer de silício sintonizável de 40-80 kHz 60 ° C Temperatura constante Limpeza ácida alcalina DI Enxaguamento com água
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