rincian produk

Rumah Produk

Jietai Tunable 40-80kHz Silicon Wafer Ultrasonik Pembersih 60°C Constant Temperature Acid Alkali Washing DI Air Rinsing

Jietai Tunable 40-80kHz Silicon Wafer Ultrasonik Pembersih 60°C Constant Temperature Acid Alkali Washing DI Air Rinsing

Nama merek:	Jietai
Nomor Model:	JTM-100504AD
Moq:	1
Harga:	￥800000
Waktu Pengiriman:	30-60 hari kerja
Ketentuan Pembayaran:	T/T

Informasi Rinci

Deskripsi produk

Informasi Rinci

Tempat asal:

Dongguan, Guandong

Sertifikasi:

CE, FCC, ROHS, etc.

Model:

JTM-100504AD

Kekuatan:

120kw

jenis:

Pencucian alkali ultrasonik+pencucian asam ultrasonik+air murni pembilasan

Frekuensi pembersihan:

40KHZ/80KHZ

Jumlah tank:

Suhu pembersihan:

Dimensi keseluruhan:

12m*2m*2.8m

Nama:

Mesin pembersih semikonduktor

Kemasan rincian:

Kemasan: Kotak kayu, bingkai kayu, peregangan film. Dimensi: 12m*2m*2.8m

Menyediakan kemampuan:

Satu unit. Ini akan memakan waktu 30 hingga 60 hari.

Menyoroti:

Semiconductor silicon wafer ultrasonic cleaner

Alkaline acid wafer cleaning machine

DI water rinsing semiconductor cleaner

Deskripsi produk

Pengantar Produk: Semikonduktor Silicon Wafer Cleaner

Dirancang khusus untuk pembuatan semikonduktor sistem pembersihan presisi ini mengintegrasikan proses ultrasonik multi-tahap untuk memenuhi persyaratan kemurnian permukaan yang ketat dari wafer silikon,memastikan kontaminasi partikel minimal dan penghapusan residu yang penting untuk pembuatan wafer.

Proses pembersihan inti:

Ultrasonik Pembersihan Alkaline: Menggunakan kimia alkali dikombinasikan dengan energi ultrasonik untuk secara efektif menghilangkan kontaminan organik, residu photoresist,dan partikel besar dari permukaan wafer, menyiapkan substrat untuk pengolahan selanjutnya.
Pembersihan asam ultrasonik: Sasaran kotoran anorganik (misalnya, ion logam, oksida) melalui perawatan ultrasonik berbasis asam,memanfaatkan efek kavitasi untuk menyingkirkan kontaminan submikron yang tertanam dalam tekstur wafer atau struktur berpola.
DI Air Rinsing: Tahap terakhir menggunakan air deionisasi kemurnian tinggi untuk pencucian menyeluruh, menghilangkan residu agen pembersih dan memastikan netralitas permukaan,suatu prasyarat untuk penanganan dan pengolahan wafer setelah pembersihan.

Spesifikasi teknis:

Frekuensi ultrasonik: 40KHz-80KHz (multi-frequency adjustable, mengoptimalkan intensitas kavitasi untuk berbagai jenis kontaminasi)
Suhu operasi: 60°C (lingkungan termal yang dikontrol secara presisi untuk meningkatkan reaktivitas kimia dan efisiensi pembersihan)
Kompatibilitas bahan: Dibangun dengan komponen PVDF, kuarsa, dan baja tahan karat 316L untuk menahan bahan kimia korosif dan mencegah kontaminasi sekunder.

Keuntungan Utama:

Mencapai efisiensi penghapusan partikel sub-10nm, sesuai dengan standar SEMI untuk pengolahan wafer canggih
Konfigurasi ultrasonik multi-frekuensi beradaptasi dengan berbagai persyaratan pembersihan (dari wafer telanjang hingga tahap wafer berpola)
Kontrol suhu loop tertutup memastikan pengulangan proses, penting untuk konsistensi batch ke batch
Mengintegrasikan mulus ke dalam lini produksi front-end dan back-end semikonduktor

Aplikasi: Ideal untuk membersihkan wafer silikon dalam pembuatan IC, pembuatan MEMS, dan proses kemasan semikonduktor, di mana integritas permukaan secara langsung mempengaruhi kinerja dan hasil perangkat.

Kata kunci: Pembersih wafer semikonduktor, pembersih alkali/asam ultrasonik, pencucian air DI, 40-80KHz, kontrol suhu 60°C, pengolahan wafer silikon

Jietai Tunable 40-80kHz Silicon Wafer Ultrasonik Pembersih 60°C Constant Temperature Acid Alkali Washing DI Air Rinsing

Tag:

Pembersih Ultrasonik Otomatis

Peralatan pembersih ultrasonik

Sistem Pembersihan Ultrasonik

Produk terkait

video

11 Tangki Mesin pembersih Semikonduktor Mesin pembersih wafer silikon 40KHZ

Dapatkan Harga Terbaik

video

100KW Sistem Pembersihan Ultrasonik Otomatis 11 Tangki Mesin Pembersih Ultrasonik

Dapatkan Harga Terbaik

rincian produk

Rumah Produk

Mesin pembersih semikonduktor

Jietai Tunable 40-80kHz Silicon Wafer Ultrasonik Pembersih 60°C Constant Temperature Acid Alkali Washing DI Air Rinsing

Semua Kategori

peralatan pembersih ultrasonik

Pembersih ultrasonik elektronik

Instrumen Pembersih Ultrasonik

Mesin pembersih semikonduktor

Pembersih Ultrasonik Komersial

Aerospace Ultrasonic Cleaner

Pembersih Ultrasonik Medis

Pembersih ultrasonik khusus

Mesin Pembersih Semprot

Mesin pembersih cetakan ultrasonik

Pembersih Ultrasonik Otomotif

Jietai Tunable 40-80kHz Silicon Wafer Ultrasonik Pembersih 60°C Constant Temperature Acid Alkali Washing DI Air Rinsing

Nama merek:	Jietai
Nomor Model:	JTM-100504AD
Moq:	1
Harga:	￥800000
Rincian kemasan:	Kemasan: Kotak kayu, bingkai kayu, peregangan film. Dimensi: 12m2m2.8m
Ketentuan Pembayaran:	T/T

Informasi Rinci

Deskripsi produk

Informasi Rinci

Tempat asal:

Dongguan, Guandong

Nama merek:

Jietai

Sertifikasi:

CE, FCC, ROHS, etc.

Nomor model:

JTM-100504AD

Model:

JTM-100504AD

Kekuatan:

120kw

jenis:

Pencucian alkali ultrasonik+pencucian asam ultrasonik+air murni pembilasan

Frekuensi pembersihan:

40KHZ/80KHZ

Jumlah tank:

Suhu pembersihan:

60℃

Dimensi keseluruhan:

12m*2m*2.8m

Nama:

Mesin pembersih semikonduktor

Kuantitas min Order:

Harga:

￥800000

Kemasan rincian:

Kemasan: Kotak kayu, bingkai kayu, peregangan film. Dimensi: 12m*2m*2.8m

Waktu pengiriman:

30-60 hari kerja

Syarat-syarat pembayaran:

T/T

Menyediakan kemampuan:

Satu unit. Ini akan memakan waktu 30 hingga 60 hari.

Menyoroti:

Semiconductor silicon wafer ultrasonic cleaner

Alkaline acid wafer cleaning machine

DI water rinsing semiconductor cleaner

Deskripsi produk

Pengantar Produk: Semikonduktor Silicon Wafer Cleaner

Proses pembersihan inti:

Ultrasonik Pembersihan Alkaline: Menggunakan kimia alkali dikombinasikan dengan energi ultrasonik untuk secara efektif menghilangkan kontaminan organik, residu photoresist,dan partikel besar dari permukaan wafer, menyiapkan substrat untuk pengolahan selanjutnya.
Pembersihan asam ultrasonik: Sasaran kotoran anorganik (misalnya, ion logam, oksida) melalui perawatan ultrasonik berbasis asam,memanfaatkan efek kavitasi untuk menyingkirkan kontaminan submikron yang tertanam dalam tekstur wafer atau struktur berpola.
DI Air Rinsing: Tahap terakhir menggunakan air deionisasi kemurnian tinggi untuk pencucian menyeluruh, menghilangkan residu agen pembersih dan memastikan netralitas permukaan,suatu prasyarat untuk penanganan dan pengolahan wafer setelah pembersihan.

Spesifikasi teknis:

Frekuensi ultrasonik: 40KHz-80KHz (multi-frequency adjustable, mengoptimalkan intensitas kavitasi untuk berbagai jenis kontaminasi)
Suhu operasi: 60°C (lingkungan termal yang dikontrol secara presisi untuk meningkatkan reaktivitas kimia dan efisiensi pembersihan)
Kompatibilitas bahan: Dibangun dengan komponen PVDF, kuarsa, dan baja tahan karat 316L untuk menahan bahan kimia korosif dan mencegah kontaminasi sekunder.

Keuntungan Utama:

Mencapai efisiensi penghapusan partikel sub-10nm, sesuai dengan standar SEMI untuk pengolahan wafer canggih
Konfigurasi ultrasonik multi-frekuensi beradaptasi dengan berbagai persyaratan pembersihan (dari wafer telanjang hingga tahap wafer berpola)
Kontrol suhu loop tertutup memastikan pengulangan proses, penting untuk konsistensi batch ke batch
Mengintegrasikan mulus ke dalam lini produksi front-end dan back-end semikonduktor

Kata kunci: Pembersih wafer semikonduktor, pembersih alkali/asam ultrasonik, pencucian air DI, 40-80KHz, kontrol suhu 60°C, pengolahan wafer silikon

Jietai Tunable 40-80kHz Silicon Wafer Ultrasonik Pembersih 60°C Constant Temperature Acid Alkali Washing DI Air Rinsing

Tag: