Nettoyeur à ultrasons à 4 réservoirs: double rinçage activé, adapté aux industries très propres

Nettoyage de précision en 4 étapes: double rinçage pour des exigences de haute pureté

Solutions personnalisées pour des industries spécifiques

Industrie électronique et des semi-conducteurs

• Réservoir de nettoyage: ondes ultrasoniques à haute fréquence de 60-100 kHz avec une faible densité de puissance (0,1-0,3 W/cm2) pour éviter d'endommager les circuits de précision.
• Première cuve de rinçage: rinçage préalable à l'eau pure pour éliminer la plupart des résidus de liquide de nettoyage.
• Deuxième réservoir de rinçage: eau ultrapure de 18 MΩ combinée à un rinçage assisté par ultrasons pour éliminer la contamination ionique, conformément aux normes de nettoyage de l'industrie électronique.
• Réservoir de séchage: séchage à basse température à l'air chaud à 40 à 60 °C pour empêcher l'oxydation et la décoloration des composants, adapté au nettoyage des paquets de semi-conducteurs et des composants électroniques.

Industrie médicale et dentaire

• Réservoir de nettoyage: en acier inoxydable 316L antibactérien avec paniers de nettoyage amovibles; ondes ultrasoniques de 28 à 40 kHz combinées à un nettoyage à haute température de 80 °C pour éliminer efficacement les résidus organiques.
• Première cuve de rinçage: rincer à l'eau stérile circulante pour éliminer initialement le liquide de nettoyage et les impuretés résiduels.
• Deuxième réservoir de rinçage: rinçage à l'eau ultrapure stérile et désinfection UV pour assurer la stérilité et la non-résidualité des surfaces des instruments.
• Réservoir de séchage: séchage et stérilisation à air chaud à haute température à 100-120°C, répondant aux exigences de stérilité médicale, adapté au nettoyage des instruments chirurgicaux,Les pièces de main et accessoires médicaux dentaires.

Industrie des instruments optiques et de précision

• réservoir de nettoyage: ondes ultrasoniques haute fréquence 80-130 kHz à faible densité de puissance pour éliminer les particules de surface sans causer de dommages.
• Première cuve de rinçage: rinçage à l'eau pure avec un contrôle de température constant pour éliminer initialement le liquide de nettoyage résiduel.
• Deuxième réservoir de rinçage: rinçage à l'eau ultrapure combiné à une pulvérisation à basse pression pour éviter les traces d'eau sur les surfaces des lentilles.
• Réservoir de séchage: séchage à l'air chaud à température moyenne à 60 à 80 °C dans un environnement exempt de poussière pour assurer la propreté et l'absence de rayures des surfaces des lentilles.pour le nettoyage de lentilles optiques et de pièces d'instruments de précision.