Nettoyeur à ultrasons à 4 réservoirs : double rinçage activé, conçu pour les industries à haute propreté

Nettoyage de précision en 4 étapes : double rinçage pour les exigences de haute pureté

Solutions personnalisées pour des industries spécifiques

Industrie électronique/semi-conducteur

• Réservoir de nettoyage : ondes ultrasonores haute fréquence de 60 à 100 kHz avec une faible densité de puissance (0,1 à 0,3 W/cm²) pour éviter d'endommager les circuits de précision.
• Premier réservoir de rinçage : rinçage préliminaire à l'eau pure pour éliminer la plupart des résidus de liquide de nettoyage.
• Deuxième réservoir de rinçage : eau ultrapure de 18 MΩ combinée à un rinçage assisté par ultrasons pour éliminer la contamination ionique, conformément aux normes de nettoyage de l'industrie électronique.
• Réservoir de séchage : séchage à l'air chaud à basse température à 40-60 ℃ pour éviter l'oxydation et la décoloration des composants, adapté au nettoyage des boîtiers de semi-conducteurs et des composants électroniques.

Industrie médicale/dentaire

• Réservoir de nettoyage : fabriqué en acier inoxydable 316L antibactérien avec des paniers de nettoyage amovibles ; ondes ultrasonores de 28 à 40 kHz combinées à un nettoyage à haute température de 80 ℃ pour éliminer efficacement les résidus organiques.
• Premier réservoir de rinçage : rinçage à l'eau stérile en circulation pour éliminer initialement les résidus de liquide de nettoyage et les impuretés.
• Deuxième réservoir de rinçage : rinçage à l'eau ultrapure stérile plus désinfection aux UV pour garantir que les surfaces des instruments sont stériles et exemptes de résidus.
• Réservoir de séchage : séchage et stérilisation à l'air chaud à haute température à 100-120 ℃, répondant aux exigences de stérilité médicale, adapté au nettoyage des instruments chirurgicaux, des pièces à main dentaires et des accessoires médicaux.

Industrie des instruments optiques/de précision

• Réservoir de nettoyage : ondes ultrasonores haute fréquence de 80 à 130 kHz avec une faible densité de puissance pour éliminer les particules de surface sans causer de dommages.
• Premier réservoir de rinçage : rinçage à l'eau pure avec contrôle constant de la température pour éliminer initialement les résidus de liquide de nettoyage.
• Deuxième réservoir de rinçage : rinçage à l'eau ultrapure combiné à une pulvérisation à basse pression pour éviter les traces d'eau sur les surfaces des lentilles.
• Réservoir de séchage : séchage à l'air chaud à température moyenne à 60-80 ℃ dans un environnement sans poussière pour garantir que les surfaces des lentilles sont propres et sans rayures, adapté au nettoyage des lentilles optiques et des pièces d'instruments de précision.