Primaire RO-fase: Bereikt een zoutverwijderingspercentage van 96%+ en verlaagt de totale opgeloste vaste stoffen (TDS) van ruw water tot ≤ 100μS/cm.- Ik weet het niet.

Secundaire RO-fase: Verdere polijststoffen doordringen tot een geleidbaarheid van ≤ 3 μS/cm, waardoor residuele ionen worden verwijderd die de ultrasone cavitatie kunnen verstoren of afzettingen kunnen achterlaten op gereinigde onderdelen.- Ik weet het niet.

Resistiviteit: tot 18,2 MΩ·cm (bij 25°C)- Ik weet het niet.

Partikelgetal: ≤ 5 deeltjes/ml (≥ 0,1 μm)- Ik weet het niet.

Silica-gehalte: ≤ 5 ppm- Ik weet het niet.

Ultrasone schoonmaakapparaten met één/meerdere tanks: Biedt spoelwater met een lage TOC om herverontreiniging van de onderdelen na ultrasone reiniging te voorkomen, het verbeteren van de vloeistofresidu en het verwijderen van metaalfijnstoffen.- Ik weet het niet.

Halfautomatische/volledig automatische ultrasone lijnen: Integreert met PLC-besturingssystemen om de waterstroom te matchen met reinigingscycli (bijv. pre-spoelen, ultrasoonwassen, laatste spoelen), waardoor handmatige interventie wordt verminderd en de doorvoer van de lijn wordt verbeterd.- Ik weet het niet.

Op maat gemaakte ultrasoonsystemen: Adapts to both low-frequency (28-40kHz) heavy-duty degreasing and high-frequency (80-120kHz) precision cleaning applications—its low-conductivity water minimizes electrochemical corrosion on sensitive components (e.bv. PCB-assemblages, chirurgische hulpmiddelen van titanium).- Ik weet het niet.- Ik weet het niet.- Ik weet het niet.