Czteroczynnik do czyszczenia ultradźwiękowego: Dwukrotne płukanie, dostosowane do przemysłu o wysokiej czystości

Czterostopniowe oczyszczanie precyzyjne: podwójne płukanie dla wymagań wysokiej czystości

Dostosowane rozwiązania dla poszczególnych branż

Przemysł elektroniczny/półprzewodniki

• Zbiornik czyszczący: fale ultradźwiękowe o wysokiej częstotliwości 60-100 kHz o niskiej gęstości mocy (0,1-0,3 W/cm2), aby uniknąć uszkodzenia układów precyzyjnych.
• Pierwszy zbiornik do płukania: wstępne płukanie czystą wodą w celu usunięcia większości pozostałości płynu czyszczącego.
• Drugi zbiornik do płukania: woda ultraczysta 18MΩ w połączeniu z płukanie z pomocą ultradźwięków w celu wyeliminowania zanieczyszczenia jonowego, zgodne ze standardami czyszczenia przemysłu elektronicznego.
• Zbiornik suszenia: Suchanie na gorącym powietrzu o niskiej temperaturze w temperaturze 40-60°C w celu zapobiegania utlenianiu i przebarwieniu części, nadaje się do czyszczenia opakowań półprzewodnikowych i komponentów elektronicznych.

Przemysł medyczno-stomatologiczny

• Zbiornik czyszczący: wykonany z antybakteryjnej stali nierdzewnej 316L z odłączalnymi koszami czyszczącymi; fale ultradźwiękowe 28-40 kHz w połączeniu z czyszczeniem w wysokiej temperaturze 80 °C w celu skutecznego usuwania pozostałości organicznych.
• Pierwszy zbiornik do płukania: płukanie krążącą wodą sterylną w celu początkowego usunięcia pozostałości płynu czyszczącego i zanieczyszczeń.
• Drugi zbiornik do płukania: płukanie sterylną wodą ultraczystą oraz dezynfekcją UV w celu zapewnienia sterylności powierzchni przyrządów i ich wolności od pozostałości.
• Zbiornik suszenia: wysokotemperaturowe suszenie na gorącym powietrzu i sterylizacja w temperaturze 100-120°C, spełniające wymagania medyczne dotyczące sterylności, nadające się do czyszczenia instrumentów chirurgicznych,Pozostałe urządzenia i urządzenia, z wyłączeniem:.

Przemysł instrumentów optycznych/precyzyjnych

• Zbiornik czyszczący: fale ultradźwiękowe o wysokiej częstotliwości 80-130 kHz o niskiej gęstości mocy w celu usunięcia cząstek powierzchniowych bez powodowania uszkodzeń.
• Pierwszy zbiornik do płukania: płukanie czystą wodą z stałą kontrolą temperatury w celu początkowego usunięcia pozostałości płynu czyszczącego.
• Drugi zbiornik na płukanie: płukanie z ultraczistą wodą w połączeniu z opryskaniem niskim ciśnieniem w celu uniknięcia śladów wody na powierzchni soczewki.
• Zbiornik suszenia: suszenie na gorącym powietrzu o średniej temperaturze w temperaturze 60-80°C w środowisku wolnym od pyłu w celu zapewnienia czystości i wolności od zadrapań powierzchni soczewek,o pojemności nieprzekraczającej 10 W,.